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成功了。
國內首臺具有世界領先水平、擁有自主智慧財產權的無掩膜光刻機日前在合肥面世。由中國工程院院士張鍾華、葉聲華等專家組成的鑑定組在鑑定後認為,芯碩半導體(中國)有限公司的“光刻機”技術,填補了國內光刻機在該項領域的空白,並且在國際同類產品中處於先進水平。
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